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標準型涂膠顯影機 CD06-XS2C2D1A

標準型涂膠顯影機 CD06-XS2C2D1A

產品特點 1占地小、穩定性高、操作與維護方便；
2可廣泛用于硅， 碳化硅， 氮化鎵，砷化鎵，玻璃等材料的涂膠顯影工藝；
3可覆蓋0.35um以上工藝需求，滿足2~6寸晶圓需求，可涂覆3~20000CP光刻膠；
4 控制精度高,實時控制解決方案，Ether CAT 通訊，高精度擺臂及傳輸機構；
5自主可控的技術方案，自主開發的軟件系統，充分滿足定制化要求。

產品應用

應用范圍：

化合物半導體、功率器件、MEMS、射頻集成電路、LED、科研項目、光學器件

產品參數

片盒數量2&3CS
wafer 類型圓片、方片
wafer 尺寸（mm）50-150
產能（WPH）110
襯底材料Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝g-line、i- line、PI


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